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本帖最后由 1939606303 于 2012-5-28 10:01 编辑 6 [0 M# [4 i/ @+ \0 w, i7 B! d( c
( a* Z& k6 B6 d/ F6 s! T% I7 k+ MN沟道MOS管(一般源极接地),只要栅源电压Vgs>Vth(通常是0.7V左右),便可在栅极下面的P衬底形成N型沟道,将源极和漏极连在一起,成为导电通道;这时只要在漏极加上电压,便可形成电流,此时电流同时受Vgs和Vds控制;当Vgd=Vgs-Vds<Vth时,沟道在漏极夹断,管子进入饱和区,此时电流仅受Vgs控制(忽略沟道长度调制效应);当漏源电压Vds太大时,会发生源漏穿通,即漏极和源极连在一起,相当于发生了击穿,此时会产生很大的电流。当栅源电压Vgs太大时,也会发生击穿,即栅氧化层被击穿,此时管子失效。 |